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        純水
        半導體、液晶面板超純水

            
         
               在半導體、液晶面板產品制造過程中,由于生產設備的精密性和生產工藝的復雜性,對其配套設施提出了很高的要求,超純水水質是在現有的工業生產中水質要求最高的。

               在半導體產品生產中,水中的有機物會降低柵氧化層材料的致密性,溶解氧會氧化硅片表面,顆粒會導致柵氧化膜厚度不均、產品圖形發生缺陷,金屬離子會使產品結晶不良、柵氧化膜的絕緣耐壓機能變壞,細菌的繁殖使它成為有機物和微粒的起源地。在液晶面板生產中,水中的堿金屬會使絕緣膜耐壓不良,重金屬會使PN結耐壓降低,Ⅲ族元素會使N型半導體特性惡化,Ⅴ族元素會使P型觸摸屏特性惡化,水中細菌高溫碳化后的磷會使觸摸屏上的局部區域變為N型硅而導致器件性能變壞,水中的顆粒和細菌如吸附在觸摸屏表面,就會引起產品特性變差。

               根據半導體及面板行業的生產工藝要求,半導體及面板生產過程的超純水水質必須滿足《ASTM D 5127-07》類型E-1.2中的相關指標。


              半導體及面板行業用超純水常用工藝為:
            

         
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