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        純水
        光學、電子用純水

                                                        
                純水在光學、電子生產中的重要作用日益突出,純水水質已經成為影響光學、電子產品質量、生產成品率以及生產成本的重要因素之一,水質要求也是越來越高。在光學、電子的生產過程當中,純水主要用作清洗用水以及用來配制各種溶液、漿料,不同的產品在生產過程中純水的用途及對水質的要求也略有不同。
         
               在電解電容器的生產過程當中,鋁箔及工作件的清洗需使用純水,如水質當中含有氯離子,電容器就會有漏電現象發生。在電子管的生產過程中,電子管陰極涂覆碳酸鹽,如果其中混入雜質,就會影響到電子的發生,進而影響電子管的放大性能。在晶體生長過程中,純水中雜質的存在會改變晶體上不同面網的表面能,導致其相對生長速度也隨之變化進而影響晶體形態。

               光學、電子用純水常用處理工藝分為:
              
        多介質過濾器+活性炭過濾器+反滲透+混合離子交換器+拋光混床
                  特點:使用反滲透減少酸堿的使用量,運行費用較低,環境污染減輕。
              
        自清洗過濾器+超濾+反滲透+電去離子(EDI)+拋光混床
                  特點:自動化程度較高,無酸堿化,運行費用低,無環境污染。
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